CVD SiC涂層產品有什么優勢？
精彩導讀： SiC具有優異的物理化學性能，如高熔點、高硬度、耐腐蝕、抗氧化等，特別是在1800-2000℃范圍，具有良好的抗燒蝕性能，因此目前廣泛應用在航空航天、兵器裝備等軍事領域
SiC具有優異的物理化學性能，如高熔點、高硬度、耐腐蝕、抗氧化等，特別是在1800-2000℃范圍，具有良好的抗燒蝕性能，因此目前廣泛應用在航空航天、兵器裝備等軍事領域，而在民用領域使用還未實現產業化。
SiC本身不能作為結構材料使用，所以通常采用制備涂層的方法，以利用其抗氧化性、耐磨性以及抗燒蝕性。
德智新材生產的SiC涂層是在高溫條件下，使特種氣體釋放出硅和碳原子，使其在石墨基座表面直接結合，從而將特定形狀石墨材料包裹起來，形成致密SiC涂層，所形成的SiC涂層牢牢的巴結在石墨基體上，賦予石墨基體特殊的性能，從而使石墨基座表面致密，無孔隙、耐高溫、阻碳、抗溶蝕、抗氧化。CVD SiC涂層材料主要應用于碳碳復合材料、碳陶復合材料、石墨、以及高溫結構件、耐腐結構件等。
與高純度相石墨比較，SiC涂層石墨基座具有耐高溫、抗氧化、純度高、和耐酸堿鹽及有機試劑等特性，物理化學性能穩定。高純石墨在400℃要發生強烈氧化，即使溫度不高，長期應用也因氧化而掉粉末，會依附工件和臺面，因此SiC涂層石墨基座作為一種新耗材在MOVCD、硅外延設備上代替了高純石墨基座。
